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多调光掩模及其修正方法

发明专利无效专利

申请号：
CN200910149587.1
IPC分类号：G03F1/00;G03F1/14
申请日期：
2009-07-06
申请人：
株式会社SK电子

基础信息

权利要求

说明书

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	多调光掩模及其修正方法
申请号	CN200910149587.1	申请日期	2009-07-06
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2010-02-24	公开/公告号	CN101655661
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F1/00 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F1/00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备〔3，2012.01〕	IPC分类号	G;0;3;F;1;/;0;0;;;G;0;3;F;1;/;1;4查看分类表>
申请人	株式会社SK电子	申请人地址	日本国京都府京都市变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	株式会社SK电子	当前权利人	株式会社SK电子
发明人	加藤和男;三宅充纮;美作昌宏
代理机构	中科专利商标代理有限责任公司	代理人	李贵亮

摘要

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