一种采用改性有机硅结合剂的纳米二氧化硅抛光薄膜及其制作工艺

发明专利有效专利

申请号：
CN201510155503.0
IPC分类号：C08J7/04;C08J7/00;C08L67/00
申请日期：
2015-04-03
申请人：
衢州学院

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专利名称	一种采用改性有机硅结合剂的纳米二氧化硅抛光薄膜及其制作工艺
申请号	CN201510155503.0	申请日期	2015-04-03
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2015-07-22	公开/公告号	CN104788701A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C08J7/04 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C08 有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物 C08J 加工；配料的一般工艺过程；不包括在C08B，C08C，C08F，C08G或C08H小类中的后处理（塑料的加工，如成型入B29）〔2〕 C08J7/00 高分子物质成形制品的化学处理或涂层（镀复金属材料入C23C；金属的电介沉积入C25）〔2〕 C08J7/04 涂层〔2〕	IPC分类号	C;0;8;J;7;/;0;4;;;C;0;8;J;7;/;0;0;;;C;0;8;L;6;7;/;0;0查看分类表>
申请人	衢州学院	申请人地址	浙江省杭州市衢州市柯城区九华北大道78号衢州学院变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	衢州学院	当前权利人	衢州学院
发明人	冯凯萍;周兆忠
代理机构	杭州求是专利事务所有限公司	代理人	张法高

摘要

本发明公开了一种采用改性有机硅结合剂的纳米二氧化硅抛光薄膜及其制作工艺。制备过程包括如下步骤：（1）混合两种粒径的纳米二氧化硅醇溶液，粒径范围在10~500纳米；（2）配制含有硅氧键的改性有机硅结合剂，加入到步骤（1）得到的二氧化硅醇溶液后搅拌并加入固化剂，超声波振荡分散30分钟；（3）对薄膜基材表面进行表面改性处理；（4）将步骤（2）得到的涂布溶液涂覆在步骤（3）得到的薄膜表面；（5）步骤（3）得到的涂覆薄膜在真空烘箱中70°C固化1小时，得到所述的纳米二氧化硅抛光薄膜。该二氧化硅抛光薄膜磨粒分布均匀，抛光效率高，工件抛光质量好的特点。

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