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用于电镀晶片表面的装置和方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN02825978.5
  • IPC分类号:--
  • 申请日期:
    2002-12-12
  • 申请人:
    皇家飞利浦电子股份有限公司
著录项信息
专利名称用于电镀晶片表面的装置和方法
申请号CN02825978.5申请日期2002-12-12
法律状态撤回申报国家中国
公开/公告日2005-06-22公开/公告号CN1630739
优先权暂无优先权号暂无
主分类号暂无IPC分类号暂无查看分类表>
申请人皇家飞利浦电子股份有限公司申请人地址
荷兰艾恩德霍芬 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人皇家飞利浦电子股份有限公司当前权利人皇家飞利浦电子股份有限公司
发明人D·L·德库贝
代理机构中国专利代理(香港)有限公司代理人吴立明;张志醒
摘要
本发明提供了用于电镀晶片表面的方法,包括将镀液引入到室中的晶片表面,和使晶片绕穿过待镀表面的旋转轴旋转,以及包括移动晶片以便引起其旋转轴自身绕第二旋转轴旋转的进一步的步骤。

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