一种提高烧结钕铁硼磁体重稀土晶界扩散效率的方法

发明专利有效专利

申请号：
CN202211142038.3
IPC分类号：H01F41/02;H01F1/057
申请日期：
2022-09-20
申请人：
中国科学院力学研究所

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著录项信息

专利名称	一种提高烧结钕铁硼磁体重稀土晶界扩散效率的方法
申请号	CN202211142038.3	申请日期	2022-09-20
法律状态	公开	申报国家	中国
公开/公告日	2022-12-06	公开/公告号	CN115440494A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01F41/02 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01F 磁体；电感；变压器；磁性材料的选择〔2〕 H01F41/00 专用于制造或装配磁体、电感器或变压器的设备或方法；专用于制造磁性材料的设备或方法 H01F41/02 用于制造磁芯、线圈或磁体的〔3〕	IPC分类号	H;0;1;F;4;1;/;0;2;;;H;0;1;F;1;/;0;5;7查看分类表>
申请人	中国科学院力学研究所	申请人地址	北京市海淀区北四环西路15号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	中国科学院力学研究所	当前权利人	中国科学院力学研究所
发明人	夏原;许亿;李光;李成灿
代理机构	北京和信华成知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	胡剑辉

摘要

本发明实施例公开了一种提高烧结钕铁硼磁体重稀土晶界扩散效率的方法，包括磁体的预处理；等离子体清洗；重稀土离子的注入在向烧结钕铁硼磁体施加负偏压的前提下，同时采用高功率脉冲磁控溅射和离子源，溅射重稀土靶材，完成重稀土离子注入；重稀土涂层的沉积通入惰性气体调节真空度至0.4‑1Pa，而后在向烧结钕铁硼磁体施加负偏压的前提下，采用高功率脉冲磁控溅射，溅射重稀土靶材，完成烧结钕铁硼磁体表面的重稀土涂层的沉积；真空热处理将沉积有重稀土涂层的烧结钕铁硼磁体进行热处理。实现了提高磁体浅表层结构缺陷密度，增加重稀土扩散通道，进而最终提高重稀土扩散效率的效果。

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