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一种紫外线曝光机用氮气幕

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN201821900348.6
  • IPC分类号:G03F7/20
  • 申请日期:
    2018-11-16
  • 申请人:
    海太半导体(无锡)有限公司
著录项信息
专利名称一种紫外线曝光机用氮气幕
申请号CN201821900348.6申请日期2018-11-16
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人海太半导体(无锡)有限公司申请人地址
江苏省无锡市新区出口加工区K5、K6地块 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人海太半导体(无锡)有限公司当前权利人海太半导体(无锡)有限公司
发明人朱文龙
代理机构无锡市朗高知识产权代理有限公司代理人赵华
摘要
本实用新型提供一种紫外线曝光机用氮气幕,包括氮气幕壳体、底座、气道、出气孔、连接块和围挡边,氮气幕壳体呈圆弧形并固定安装在底座上,氮气幕壳体内设置有出气孔,氮气幕壳体内部设置有连接气源与出气孔的气道,氮气幕壳体外径圈上设置有连接块,氮气幕壳体靠近凸起一侧的外圆周上设置有围挡边,氮气幕壳体表面涂布有特氟龙,材质采用陶瓷。本实用新型通过氮气幕的机构完善了氮气对产品的保护,有效的防止了因为紫外线照射使空气中的氧气和水蒸气发生反应,造成紫外线的减弱从而导致的胶膜粘性过高产生的品质隐患。

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