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用于投影曝光装置的标线以及使用它的曝光方法

发明专利无效专利

申请号：
CN200910128812.3
IPC分类号：G03F7/20;G03F9/00
申请日期：
2009-03-10
申请人：
精工电子有限公司

基础信息

权利要求

说明书

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	用于投影曝光装置的标线以及使用它的曝光方法
申请号	CN200910128812.3	申请日期	2009-03-10
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2009-09-16	公开/公告号	CN101533229
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/20 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/20 曝光及其设备（复制用照相印制设备入G03B 27/00）〔4〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;2;0;;;G;0;3;F;9;/;0;0查看分类表>
申请人	精工电子有限公司	申请人地址	日本千叶县变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	艾普凌科有限公司	当前权利人	艾普凌科有限公司
发明人	冈野大辅
代理机构	中国专利代理（香港）有限公司	代理人	柯广华;徐予红

摘要

本发明为用于投影曝光装置的标线以及使用它的曝光方法，为了提供能够增加每个晶圆的芯片数量并且实现高精确对准的标线以及使用标线的曝光方法，第一对准标记布置区域(8)和第二对准标记布置区域(9)在多芯片区域(2)的两侧提供，以便使第一对准标记布置区域的尺寸与第二对准标记布置区域的尺寸之和与芯片区域(1)的尺寸相同。

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