一种阵列基板、其检测方法及显示装置

发明专利有效专利

申请号：
CN201710786474.7
IPC分类号：G02F1/1362;G02F1/1333;G06K9/00
申请日期：
2017-09-04
申请人：
京东方科技集团股份有限公司

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专利名称	一种阵列基板、其检测方法及显示装置
申请号	CN201710786474.7	申请日期	2017-09-04
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2017-12-01	公开/公告号	CN107422560A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02F1/1362 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02F 用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器〔2，4〕 G02F1/00 控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学〔2，4〕 G02F1/01 对强度、相位、偏振或颜色的控制（G02F 1/29、G02F 1/35优先）〔2，7〕 G02F1/13 基于液晶的，例如单位液晶显示单元〔2〕 G02F1/133 构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置（用于控制矩阵中液晶元件并且在结构上不与这些元件相连的装置或电路入G09G 3/36）〔3，7〕 G02F1/136 结构上与一半导体层或基片相结合的液晶单元，例如形成集成电路部分的液晶单元（G02F 1/135优先）〔5〕 G02F1/1362 有源矩阵寻址单元〔7〕	IPC分类号	G;0;2;F;1;/;1;3;6;2;;;G;0;2;F;1;/;1;3;3;3;;;G;0;6;K;9;/;0;0查看分类表>
申请人	京东方科技集团股份有限公司	申请人地址	北京市朝阳区酒仙桥路10号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	京东方科技集团股份有限公司	当前权利人	京东方科技集团股份有限公司
发明人	刘英明;董学;王海生;吴俊纬;丁小梁;许睿;刘伟
代理机构	北京同达信恒知识产权代理有限公司	代理人	郭润湘

摘要

本发明公开了一种阵列基板、其检测方法及显示装置，该阵列基板，包括：衬底基板，位于衬底基板上的薄膜晶体管，以及位于衬底基板上的光敏层；其中，光敏层，包括：遮光部；遮光部的图形在衬底基板上的正投影至少部分遮挡薄膜晶体管的有源层的图形，且遮光部位于薄膜晶体管的有源层背离栅极的一侧。本发明实施例中的阵列基板，采用光敏层中的遮光部遮挡有源层的图形，由于光敏层受到光线照射会产生光生电流，即光敏层可以将光能转换为电能，因此，光敏层具有一定的吸光作用，大部分光线被光敏层吸收，减少了遮光部的光反射，降低对显示装置的显示效果的影响。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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