膜层厚度测量方法及膜层厚度测量装置

发明专利有效专利

申请号：
CN201810634417.1
IPC分类号：G01B15/02;G06T7/00;G06T7/13;G06T7/62
申请日期：
2018-06-20
申请人：
长江存储科技有限责任公司

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著录项信息

专利名称	膜层厚度测量方法及膜层厚度测量装置
申请号	CN201810634417.1	申请日期	2018-06-20
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2018-12-11	公开/公告号	CN108981624A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01B15/02 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01B 长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量 G01B15/00 以采用波或粒子辐射为特征的计量设备（G01B 9/00，G01B 11/00优先）〔4〕 G01B15/02 用于计量厚度	IPC分类号	G;0;1;B;1;5;/;0;2;;;G;0;6;T;7;/;0;0;;;G;0;6;T;7;/;1;3;;;G;0;6;T;7;/;6;2查看分类表>
申请人	长江存储科技有限责任公司	申请人地址	湖北省武汉市洪山区东湖开发区关东科技工业园华光大道18号7018室变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	长江存储科技有限责任公司	当前权利人	长江存储科技有限责任公司
发明人	刘公才
代理机构	上海盈盛知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	董琳;陈丽丽

摘要

本发明提供了一种膜层厚度测量方法及膜层厚度测量装置。膜层厚度测量方法包括如下步骤：提供一图像，图像为两个以上同轴嵌套的膜层的截面图；选择一待测量膜层的膜层截面，待测量膜层的膜层截面包括相对的第一边界和第二边界；采用第一边缘检测算法获取第一边界的第一轮廓；采用第二边缘检测算法获取第二边界的第二轮廓；计算第一轮廓中的多个像素点到第二轮廓的垂直距离，得到第一膜层的厚度。本发明简化了膜层厚度的测量步骤，节省了人力成本，提高了膜层厚度测量的精准度和可靠性。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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