自清洁装置及基板处理设备

实用新型专利有效专利

申请号：
CN201020583557.X
IPC分类号：H01L21/00
申请日期：
2010-10-25
申请人：
北京京东方光电科技有限公司

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著录项信息

专利名称	自清洁装置及基板处理设备
申请号	CN201020583557.X	申请日期	2010-10-25
法律状态	暂无	申报国家	暂无
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01L21/00 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G 9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中半导体器件的使用见该应用的小类）〔2〕 H01L21/00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备〔2，8〕	IPC分类号	H;0;1;L;2;1;/;0;0查看分类表>
申请人	北京京东方光电科技有限公司	申请人地址	北京市朝阳区酒仙桥路10号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	京东方科技集团股份有限公司,北京京东方光电科技有限公司	当前权利人	京东方科技集团股份有限公司,北京京东方光电科技有限公司
发明人	吴健
代理机构	北京同立钧成知识产权代理有限公司	代理人	刘芳

摘要

本实用新型提供一种自清洁装置及基板处理设备，其中的自清洁装置包括：漏液接收槽、第一移动部件和第二移动部件，以及用于对所述漏液接收槽内的漏液进行清洗的清洗部件；所述漏液接收槽的底部设置有排泄漏口；所述第一移动部件和第二移动部件分别沿所述漏液接收槽的相对两侧边设置；所述清洗部件的两端分别连接所述第一移动部件和第二移动部件；所述清洗部件还连接清洗物质供应导管。本实用新型实现了自动、快速的解决设备泄漏，减少了药液对人体的危害，降低了设备停机维护的时间，提高了漏液处理的效率。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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该专利没有被任何外部专利所引用！

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