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一种新型氧化铪基电场调控磁性异质结构及其制备方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202010108592.4
  • IPC分类号:H01L43/10;H01L43/02;H01L43/08
  • 申请日期:
    2020-02-21
  • 申请人:
    山西师范大学
著录项信息
专利名称一种新型氧化铪基电场调控磁性异质结构及其制备方法
申请号CN202010108592.4申请日期2020-02-21
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2020-06-30公开/公告号CN111354851A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L43/10IPC分类号H;0;1;L;4;3;/;1;0;;;H;0;1;L;4;3;/;0;2;;;H;0;1;L;4;3;/;0;8查看分类表>
申请人山西师范大学申请人地址
山西省临汾市贡院街1号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人山西师范大学当前权利人山西师范大学
发明人全志勇;王美美;张笑;肖政昱;吕宝华;张军;许小红
代理机构北京三聚阳光知识产权代理有限公司代理人李静
摘要
本发明属于磁电耦合材料制备技术领域,具体涉及一种新型氧化铪基电场调控磁性异质结构及其制备方法。该异质结构包括依次层叠设置的衬底、氧化铪层、铁磁层和铂电极;氧化铪层为具有铁电性的掺杂氧化铪;铁磁层为CoFe2O4层、Fe3O4层、Co层、NiFe合金层或CoFe合金层。该电场调控磁性异质结构中掺杂氧化铪为正交相结构,与硅基半导体工艺的兼容性良好,且掺杂氧化铪中不含有毒重金属铅,同时掺杂氧化铪可以和CoFe2O4、Fe3O4、Co、NiFe合金或CoFe合金的铁磁层间传递应力、实现电荷积累,从而产生磁电耦合,实现室温电场调控磁性,有效克服了传统铁电材料对硅基工艺的不兼容性以及磁矩调控幅度小的问题。

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