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用于沉积的输送装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200880109091.5
  • IPC分类号:C23C16/455
  • 申请日期:
    2008-09-24
  • 申请人:
    伊斯曼柯达公司
著录项信息
专利名称用于沉积的输送装置
申请号CN200880109091.5申请日期2008-09-24
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2010-08-18公开/公告号CN101809192A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C23C16/455IPC分类号C;2;3;C;1;6;/;4;5;5查看分类表>
申请人伊斯曼柯达公司申请人地址
美国纽约州 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人伊斯曼柯达公司当前权利人伊斯曼柯达公司
发明人R·S·克尔;D·H·莱维;J·T·默里
代理机构中国专利代理(香港)有限公司代理人赵苏林;韦欣华
摘要
用于薄膜材料沉积的输送装置至少具有分别接收第一、第二和第三气态材料的公共供给源的第一、第二和第三进入口。该第一、第二和第三伸长输出通道中的每一个允许与相应的第一、第二和第三入口之一气体连通。该输送装置可以由孔板形成,所述孔板叠置而界定将供应室和导向通道互连的网络,以便将气态材料中的每一种从其相应的入口传递到相应的多个伸长输出通道。该输送装置包括由护面板之间的浮雕图案形成的扩散通道。还公开了薄膜沉积的方法。最后,一般地说,公开了流动扩散器和相应的流动扩散方法。

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