一种原位合成普鲁士蓝修饰的隔膜的制备方法及其应用

发明专利无效专利

申请号：
CN201710995033.8
IPC分类号：H01M2/14;H01M2/16;H01M10/052
申请日期：
2017-10-23
申请人：
哈尔滨工业大学

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专利名称	一种原位合成普鲁士蓝修饰的隔膜的制备方法及其应用
申请号	CN201710995033.8	申请日期	2017-10-23
法律状态	驳回	申报国家	中国
公开/公告日	2018-03-13	公开/公告号	CN107799700A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01M2/14 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01M 用于直接转变化学能为电能的方法或装置，例如电池组〔2〕（一般电化学的方法或装置入C25；用于转变光或热为电能的半导体或其他固态器件入H01L，例如H01L 31/00，H01L 35/00，H01L 37/00）〔2〕 H01M2/00 非活性部件的结构零件或制造方法〔2〕 H01M2/14 隔板；薄膜；膜片；间隔元件〔2〕	IPC分类号	H;0;1;M;2;/;1;4;;;H;0;1;M;2;/;1;6;;;H;0;1;M;1;0;/;0;5;2查看分类表>
申请人	哈尔滨工业大学	申请人地址	黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	哈尔滨工业大学	当前权利人	哈尔滨工业大学
发明人	孙克宁;吴宪;张乃庆;范立双
代理机构	哈尔滨龙科专利代理有限公司	代理人	高媛

摘要

一种原位合成普鲁士蓝修饰的隔膜的制备方法及其应用，属于能源材料技术领域。所述方法如下：用等离子清洗机处理隔膜2~5min，使其表面转变为亲水结构；将0.1~0.15g普鲁士蓝化合物、0.1~0.2g硝酸铁、5~15mL0.1M的盐酸及3.0~3.5gPVP加入到80mL去离子水中搅拌10~30min，加入步骤一处理后的隔膜，80℃静置8~48h，即得到普鲁士蓝化合物修饰的隔膜。本发明的优点是：普鲁士蓝对锂硫电池放电中间产物Li2Sn(4≤n≤8)有很强的吸附作用，能够抑制多硫化锂的溶解，从而抑制穿梭效应，实现高性能锂硫电池的制备；原位生长过程工艺简单，易于操作，易于大规模生产；普鲁士蓝价格便宜、无污染，修饰后的隔膜能够抑制多硫化锂的穿梭效应，制备过程清洁环保，同时能够提升锂硫电池的循环性能。

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