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基板处理装置

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201110158579.0
  • IPC分类号:H01L21/00
  • 申请日期:
    2011-06-07
  • 申请人:
    东京毅力科创株式会社
著录项信息
专利名称基板处理装置
申请号CN201110158579.0申请日期2011-06-07
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2011-12-07公开/公告号CN102270565A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/00IPC分类号H01L21/00查看分类表>
申请人东京毅力科创株式会社申请人地址
日本*** 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人东京毅力科创株式会社当前权利人东京毅力科创株式会社
发明人田中善嗣;羽鸟一成;笠原稔大
代理机构北京集佳知识产权代理有限公司代理人李伟;舒艳君
摘要
本发明提供一种基板处理装置,其抑制装置的大型化、抑制占地面积的增大。在维持为真空环境的真空搬送室(13)的周围,设置对基板进行真空处理的多个处理室(30)。上述处理室(30)构成为利用盖体(32)开闭容器主体(31)的上部开口。盖体开闭机构(6)以一边通过多个处理室(30)的各个盖体(32)的开闭位置一边沿着上述真空搬送室(13)的外周移动的方式设置。在上述盖体(32)上设置有被保持部(5),通过使设置于盖体开闭机构(6)的盖体保持机构(7)在上述开闭位置上升,从处理室(30)抬起盖体(32)。

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