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一种沉降型反光膜的单层共面涂布工艺

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201710585807.X
  • IPC分类号:G02B5/128
  • 申请日期:
    2017-07-18
  • 申请人:
    合肥鼎亮光学科技有限公司
著录项信息
专利名称一种沉降型反光膜的单层共面涂布工艺
申请号CN201710585807.X申请日期2017-07-18
法律状态驳回申报国家暂无
公开/公告日2017-09-29公开/公告号CN107219578A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G02B5/128IPC分类号G;0;2;B;5;/;1;2;8查看分类表>
申请人合肥鼎亮光学科技有限公司申请人地址
安徽省合肥市肥东县众兴工业聚集区 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人合肥鼎亮光学科技有限公司当前权利人合肥鼎亮光学科技有限公司
发明人范春平
代理机构安徽合肥华信知识产权代理有限公司代理人余成俊
摘要
本发明公开了一种沉降型反光膜的单层共面涂布工艺,本发明中经阴离子表面活性剂处理后的玻璃微珠表面Zeta电位升高,表面带有正电荷,与TiO2·nH2O带异种电荷,包覆过程中,基本上完全中和了空心玻璃微珠所带的电荷,使其具有优良的抗静电性,容易形成单层均匀分布的玻璃微珠层;之后将包覆二氧化钛的玻璃微珠均匀分布在改性丙烯酸涂料中,经包覆处理后的玻璃微珠质量增加,可以促进其沉降形成,微珠快速沉降到基膜表面,形成紧密均匀玻璃微珠层,制作的反光膜的反光性能和品质明显提高。

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