基于皮层脑电图的多通道MEAs的制备方法

发明专利有效专利

申请号：
CN202011051491.4
IPC分类号：A61B5/291;A61B5/369
申请日期：
2020-09-29
申请人：
哈尔滨工业大学

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法律信息

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著录项信息

专利名称	基于皮层脑电图的多通道MEAs的制备方法
申请号	CN202011051491.4	申请日期	2020-09-29
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2021-01-22	公开/公告号	CN112244848A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	A61B5/291	IPC分类号	A;6;1;B;5;/;2;9;1;;;A;6;1;B;5;/;3;6;9查看分类表>
申请人	哈尔滨工业大学	申请人地址	黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	哈尔滨工业大学	当前权利人	哈尔滨工业大学
发明人	王琮;魏宇琛;蒋程鹏
代理机构	哈尔滨华夏松花江知识产权代理有限公司	代理人	侯静

摘要

基于皮层脑电图的多通道MEAs的制备方法，本发明属于先进的微加工技术领域，它要解决柔性MEAs在高时空分辨率下操作，生产效率较低的问题。制备方法：一、对硅衬底进行等离子体清洗；二、在硅衬底表面沉积铝牺牲层；三、将非光敏聚酰亚胺MEAs基材多次旋涂在铝牺牲层上；四、光刻聚酰亚胺层图案化定型，电感耦合等离子体刻蚀处理；五、通过光刻工艺形成微电极网络和互连板；六、将非光敏聚酰亚胺MEAs基材旋涂在底层聚酰亚胺上，使用光致抗蚀剂掩蔽晶片，以限定互连线和焊盘；七、去除铝牺牲层。本发明中以6英寸高阻硅片为基片，结合柔性聚酰亚胺可以在单片上大批量生产25个MEAs。记录位置以高时空分辨率紧凑排列。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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