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QD发光层、量子点发光器件及其制备方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110702697.7
  • IPC分类号:H01L51/50;H01L51/56
  • 申请日期:
    2021-06-24
  • 申请人:
    合肥福纳科技有限公司
著录项信息
专利名称QD发光层、量子点发光器件及其制备方法
申请号CN202110702697.7申请日期2021-06-24
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-09-21公开/公告号CN113421986A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L51/50IPC分类号H;0;1;L;5;1;/;5;0;;;H;0;1;L;5;1;/;5;6查看分类表>
申请人合肥福纳科技有限公司申请人地址
安徽省合肥市新站区新蚌埠路3768号佳海工业城一期G91栋 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人合肥福纳科技有限公司当前权利人合肥福纳科技有限公司
发明人宋斌;梁凯旋;姚琪
代理机构北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)代理人赵丽婷
摘要
本发明公开了一种QD发光层、量子点发光器件及其制备方法,所述QD发光层包括:至少两层子QD发光层,紧贴着空穴传输层的所述子QD发光层包含的量子点的导带能级小于紧贴着电子传输层的所述子QD发光层包含的量子点的导带能级,且紧贴着空穴传输层的所述子QD发光层包含的量子点的价带能级大于紧贴着电子传输层的所述子QD发光层包含的量子点的价带能级。现有量子点发光二极管性能以及发光寿命普遍较差,本发明通过采用多种具有不同能级结构的量子点来适配对应的电子传输层以及空穴传输层,以此来平衡电子和空穴的注入平衡,从而提高量子点发光二极管的性能以及发光寿命。

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