层叠体及其制法、光学膜的形成方法、偏光膜及其制法、圆偏光板、液晶显示元件的制法

发明专利有效专利

申请号：
CN202010180231.0
IPC分类号：G02B5/30;C09K19/56;C09K19/54
申请日期：
2020-03-16
申请人：
JSR株式会社

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专利名称	层叠体及其制法、光学膜的形成方法、偏光膜及其制法、圆偏光板、液晶显示元件的制法
申请号	CN202010180231.0	申请日期	2020-03-16
法律状态	公开	申报国家	中国
公开/公告日	2020-10-23	公开/公告号	CN111812763A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02B5/30 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02B 光学元件、系统或仪器（G02F优先；专用于照明装置或系统的光学元件入F21V 1/00至F21V 13/00；测量仪器见G01类的有关小类，例如，光学测距仪入G01C；光学元件、系统或仪器的测试入G01M 11/00；眼镜入G02C；摄影、放映或观看用的装置或设备入G03B；声透镜入G10K 11/30；电子和离子“光学”入H01J；X射线“光学”入H01J，H05G 1/00；结构上与放电管相组合的光学元件入H01J 5/16，H01J 29/89，H01J 37/22；微波“光学”入H01Q；光学元件与电视接收机的组合装置入H04N 5/72；彩色电视系统中的光学系统或装置入H04N 9/00；专门适用于透明或反射区的加热装置入H05B 3/84）〔1，7〕 G02B5/00 除透镜外的光学元件（光波导入G02B 6/00；光学逻辑元件入G02F 3/00）〔4〕 G02B5/30 偏振元件（光调制器件入G02F 1/00）	IPC分类号	G;0;2;B;5;/;3;0;;;C;0;9;K;1;9;/;5;6;;;C;0;9;K;1;9;/;5;4查看分类表>
申请人	JSR株式会社	申请人地址	日本东京港区东新桥一丁目9番2号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	JSR株式会社	当前权利人	JSR株式会社
发明人	樫下幸志;大场佑树;绫部真嗣;栗田慎也
代理机构	北京同立钧成知识产权代理有限公司	代理人	杨文娟;臧建明

摘要

本发明提供一种层叠体及其制法、光学膜的形成方法、偏光膜及其制法、圆偏光板、液晶显示元件的制法。本发明的课题为获得具有光学功能的转印膜与液晶取向膜的剥离性良好、且转印后的表面粗糙度小、液晶取向性良好的转印膜。层叠体包括：支撑体、形成于支撑体上的液晶取向膜、以及形成于液晶取向膜上的光学膜。液晶取向膜是使用液晶取向剂而形成，所述液晶取向剂含有：第一聚合物，为选自由聚酰胺酸、聚酰亚胺及聚酰胺酸酯所组成的群组中的至少一种聚合物且具有光取向性基；以及第二聚合物，为具有与聚酰胺酸、聚酰亚胺及聚酰胺酸酯不同的主链的聚合物且具有光取向性基。光学膜是使液晶组合物硬化而获得。

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