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用于嵌入式存储器应用的横向扩散MOSFET

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201810669738.5
  • IPC分类号:H01L29/10;H01L29/417;H01L29/78;H01L27/11526;H01L27/11573
  • 申请日期:
    2018-06-26
  • 申请人:
    半导体组件工业公司
著录项信息
专利名称用于嵌入式存储器应用的横向扩散MOSFET
申请号CN201810669738.5申请日期2018-06-26
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2019-01-01公开/公告号CN109119465A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L29/10
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;9;/;1;0;;;H;0;1;L;2;9;/;4;1;7;;;H;0;1;L;2;9;/;7;8;;;H;0;1;L;2;7;/;1;1;5;2;6;;;H;0;1;L;2;7;/;1;1;5;7;3查看分类表>
申请人半导体组件工业公司申请人地址
美国亚利桑那州 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人半导体组件工业公司当前权利人半导体组件工业公司
发明人蒂埃里·姚
代理机构北京律盟知识产权代理有限责任公司代理人章蕾
摘要
本申请涉及用于嵌入式存储器应用的横向扩散MOSFET。例如,提供一种特别适用于密集间距环境如集成存储器应用中的线驱动器的横向扩散MOSFET LDMOS设备架构。在一个实施方案中,例示性高压MOSFET设备包括:主体(第一导电类型的半导体);源极区(第二导电类型的半导体),所述源极区位于源极有效区域处并且在主体内或邻近主体定位;漂移区(第二导电类型的轻掺杂半导体),所述漂移区邻近主体定位;以及栅极,所述栅极覆盖主体的至少一部分和漂移区的至少一部分以在源极区与漂移区之间形成可控沟道。为了增大漏极击穿电压,漂移区的宽度尺寸形成为充分小以使耗尽区延伸穿过漂移区的整个宽度。

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