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一种用于分析三氯氢硅中痕量杂质的前处理装置

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN201420668158.1
  • IPC分类号:G01N1/28
  • 申请日期:
    2014-11-11
  • 申请人:
    亚洲硅业(青海)有限公司
著录项信息
专利名称一种用于分析三氯氢硅中痕量杂质的前处理装置
申请号CN201420668158.1申请日期2014-11-11
法律状态暂无申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G01N1/28IPC分类号G;0;1;N;1;/;2;8查看分类表>
申请人亚洲硅业(青海)有限公司申请人地址
青海省西宁市城东经济技术开发区金硅路1号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人亚洲硅业(青海)有限公司,亚洲硅业(青海)股份有限公司当前权利人亚洲硅业(青海)有限公司,亚洲硅业(青海)股份有限公司
发明人张福海;蔡延国;王生红;刘元香;征取;季静佳
代理机构兰州中科华西专利代理有限公司代理人李艳华
摘要
本实用新型涉及一种用于分析三氯氢硅中痕量杂质的前处理装置,该装置包括密闭装置主体、混合气体收集器、吸收塔、与所述密闭装置主体相连的样品瓶。所述密闭装置主体的一侧设有混合气体出口接口,其中部设有氮气进口接口,其内壁设有螺纹Ⅰ;所述氮气进口接口通过硅胶管Ⅰ依次连接流量计、氮气控制阀至氮气管路;所述混合气体出口接口通过硅胶管Ⅱ与所述混合气体收集器相连,该混合气体收集器的一端经混合气体进口与所述吸收塔相连;所述吸收塔的一侧设有自来水出口,其顶部设有未反应的其它气体出口,其塔内上部设有带喷啉头的自来水管线,该自来水管线外接自来水总管;所述样品瓶设有外罩。本实用新型操作简单、重现性较好,可避免样品污染。

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