一种干涉仪及其使用方法

发明专利有效专利

申请号：
CN200710171610.8
IPC分类号：G01M11/02;G01J9/02
申请日期：
2007-11-30
申请人：
上海微电子装备有限公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	一种干涉仪及其使用方法
申请号	CN200710171610.8	申请日期	2007-11-30
法律状态	暂无	申报国家	中国
公开/公告日	2008-05-21	公开/公告号	CN101183041
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01M11/02 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01M 机器或结构部件的静或动平衡的测试；其他类目中不包括的结构部件或设备的测试 G01M11/00 光学设备的测试；其他类目未包括的用光学方法测试结构部件 G01M11/02 光学性质的测试	IPC分类号	G;0;1;M;1;1;/;0;2;;;G;0;1;J;9;/;0;2查看分类表>
申请人	上海微电子装备有限公司	申请人地址	上海市张江高科技园区张东路1525号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	上海微电子装备（集团）股份有限公司	当前权利人	上海微电子装备（集团）股份有限公司
发明人	刘国淦
代理机构	上海思微知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	屈蘅;李时云

摘要

本发明公开了一种用于后封装光刻机投影物镜检测的干涉仪及其使用方法，本发明的干涉仪包括产生光源的激光光源模块，连接激光光源模块和光开关的单模光纤，通过单模光纤和光开关连接的分光模块，接收光源的成像光学系统和图像传感器，和干涉仪各部件相连的主控机，干涉仪使用时，被测物镜安放在分光模块和接收光源的成像光学系统之间，其发明点在于：在所述的分光模块和被测物镜之间还有一个光纤位置调整模块，在被测物镜之后还有一个干涉模块，所述的干涉仪安装在光刻机微动平台上。利用本发明的干涉仪可准确得测得后封装光刻机投影物镜的波前误差、并可减小光学检测元件的尺寸，而且制造简单，检测精度高且操作方便。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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