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一种抗水化高纯氧化钙坩埚的制备方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201110435892.4
  • IPC分类号:C04B35/66
  • 申请日期:
    2011-12-22
  • 申请人:
    沈阳鑫劲粉体工程有限责任公司
著录项信息
专利名称一种抗水化高纯氧化钙坩埚的制备方法
申请号CN201110435892.4申请日期2011-12-22
法律状态撤回申报国家中国
公开/公告日2013-06-26公开/公告号CN103172390A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C04B35/66IPC分类号C;0;4;B;3;5;/;6;6查看分类表>
申请人沈阳鑫劲粉体工程有限责任公司申请人地址
辽宁省沈阳市法库市法库经济开发区 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人沈阳鑫劲粉体工程有限责任公司当前权利人沈阳鑫劲粉体工程有限责任公司
发明人赵明;韩绍娟;许壮志;薛健;张明;吴学坤
代理机构沈阳维特专利商标事务所(普通合伙)代理人甄玉荃;孙丽珠
摘要
一种抗水化高纯氧化钙坩埚的制备方法,是为解决目前氧化钙坩埚普遍存在的坩埚中氧化钙纯度低时,易给熔炼的金属及合金引入杂质,氧化钙纯度高时,坩埚非常容易水化,在反复使用中易开裂,使用寿命短等技术问题而设计的。该方法将高纯碳酸钙电熔得到氧化钙砂后,将其破碎到合适的粒度进行混合级配。取级配好的氧化钙砂混合氧化锆粉料,再将混合好的粉体,加入无水粘结剂。经冷等静压得到氧化钙坩埚坯体,再经过烧结制得所需要的抗水化高纯氧化钙坩埚。有益效果:抗水化高纯氧化钙坩埚作为真空感应炉内衬,熔炼出的金属或合金性能超越了石墨坩埚,提高了抗水化和抗热震性能,降低了氧化钙的烧结温度;采用冷等静压成型,使坩埚成型更简单便捷;由于其具有纯度高,力学性能好的特点,可广泛应用于真空冶金行业。

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