一种阵列基板及其制作方法、显示装置

发明专利有效专利

申请号：
CN201710762641.4
IPC分类号：G02F1/1343;G02F1/1362
申请日期：
2017-08-29
申请人：
京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司

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专利名称	一种阵列基板及其制作方法、显示装置
申请号	CN201710762641.4	申请日期	2017-08-29
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2017-12-08	公开/公告号	CN107450239A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02F1/1343 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02F 用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器〔2，4〕 G02F1/00 控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学〔2，4〕 G02F1/01 对强度、相位、偏振或颜色的控制（G02F 1/29、G02F 1/35优先）〔2，7〕 G02F1/13 基于液晶的，例如单位液晶显示单元〔2〕 G02F1/133 构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置（用于控制矩阵中液晶元件并且在结构上不与这些元件相连的装置或电路入G09G 3/36）〔3，7〕 G02F1/1333 构造上的设备（G02F 1/135，G02F 1/136优先）〔5〕 G02F1/1343 电极〔5〕	IPC分类号	G;0;2;F;1;/;1;3;4;3;;;G;0;2;F;1;/;1;3;6;2查看分类表>
申请人	京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司	申请人地址	北京市朝阳区酒仙桥路10号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	京东方科技集团股份有限公司,北京京东方显示技术有限公司	当前权利人	京东方科技集团股份有限公司,北京京东方显示技术有限公司
发明人	袁帅;刘晓那;陈玉琼;王孟杰;李宁;吴臣臣;郑子易
代理机构	北京中博世达专利商标代理有限公司	代理人	申健

摘要

本发明实施例提供一种阵列基板及其制作方法、显示装置，涉及显示技术领域，能够避免在亚像素内因公共电极的边缘存在拐角而导致的电场分布不均的弊端。该阵列基板包括由横纵交错排布的栅线和数据线界定的、位于显示区域的多个亚像素，阵列基板还包括设置于衬底基板上的公共电极和像素电极；公共电极包括：多个平行设置的第一条状子电极，其中，每个第一条状子电极均贯穿所述显示区域；将所有第一条状子电极电连接的公共电极线。

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