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半导体装置中形成为金属线互连件的凸块接合件

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201580026338.7
  • IPC分类号:H01L23/00;H01L23/31;H01L23/482;H01L23/495;H01L23/528
  • 申请日期:
    2015-05-18
  • 申请人:
    密克罗奇普技术公司
著录项信息
专利名称半导体装置中形成为金属线互连件的凸块接合件
申请号CN201580026338.7申请日期2015-05-18
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2017-02-22公开/公告号CN106463461A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L23/00IPC分类号H;0;1;L;2;3;/;0;0;;;H;0;1;L;2;3;/;3;1;;;H;0;1;L;2;3;/;4;8;2;;;H;0;1;L;2;3;/;4;9;5;;;H;0;1;L;2;3;/;5;2;8查看分类表>
申请人密克罗奇普技术公司申请人地址
美国亚利桑那州 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人密克罗奇普技术公司当前权利人密克罗奇普技术公司
发明人格列格·迪克斯;罗杰·迈尔奇;哈罗德·克兰
代理机构北京律盟知识产权代理有限责任公司代理人沈锦华
摘要
本发明涉及一种半导体功率芯片,其具有形成于半导体裸片(10)上的半导体功率装置(210、530、720、730、830、840)(例如,功率FET装置);其中所述半导体功率装置(210、530、720、730、830、840)包括:导电接触元件(230A、230B、230C)阵列;钝化层(250),其形成于所述多个导电接触元件(230A、230B、230C)上方,所述钝化层(250)包括多个所述导电接触元件(230A、230B、230C)上方的钝化开口(12、252);及导电凸块(200、200a’、200c’、200e’、200A、200B’、200C)阵列,其包含一或多个互连凸块(200a’、200c’、200e’、200A、200B’、200C),其中每一互连凸块(200a’、200c’、200e’、200A、200B’、200C)形成于所述钝化层(250)上方并延伸到所述钝化开口(12、252)中的至少两者中且与至少两个下伏导电接触元件(230A、230B、230C)接触,以借此提供所述至少两个下伏导电接触元件(230A、230B、230C)之间的导电耦合。所述导电接触元件(230A、230B、230C)阵列可包括至少一个栅极接触元件(230A)、至少一个漏极接触元件(230B)及至少一个源极接触元件(230C)。所述半导体功率芯片可进一步包括引线框架(104、510、610、710、810),所述引线框架耦合到所述导电凸块(200、200a’、200c’、200e’、200A、200B’、200C)阵列,使得所述一或多个互连凸块(200a’、200c’、200e’、200A、200B’、200C)提供所述导电接触元件(230A、230B、230C)阵列的至少一部分与所述引线框架(104、510、610、710、810)之间的导电耦合。

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