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反射镜和反射镜基底及用于其生产的方法和装置

发明专利有效专利

申请号：
CN201910729737.X
IPC分类号：G02B23/02;G02B23/16;G02B7/182
申请日期：
2019-08-08
申请人：
肖特股份有限公司

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法律信息

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著录项信息

专利名称	反射镜和反射镜基底及用于其生产的方法和装置
申请号	CN201910729737.X	申请日期	2019-08-08
法律状态	实质审查	申报国家	暂无
公开/公告日	2020-02-21	公开/公告号	CN110824692A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02B23/02 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02B 光学元件、系统或仪器（G02F优先；专用于照明装置或系统的光学元件入F21V 1/00至F21V 13/00；测量仪器见G01类的有关小类，例如，光学测距仪入G01C；光学元件、系统或仪器的测试入G01M 11/00；眼镜入G02C；摄影、放映或观看用的装置或设备入G03B；声透镜入G10K 11/30；电子和离子“光学”入H01J；X射线“光学”入H01J，H05G 1/00；结构上与放电管相组合的光学元件入H01J 5/16，H01J 29/89，H01J 37/22；微波“光学”入H01Q；光学元件与电视接收机的组合装置入H04N 5/72；彩色电视系统中的光学系统或装置入H04N 9/00；专门适用于透明或反射区的加热装置入H05B 3/84）〔1，7〕 G02B23/00 望远镜，例如，双筒望远镜（测量望远镜入G01B 9/06）；潜望镜；用于观察空心体内部的仪器（诊断仪器入A61B）；取景器（物镜入G02B 9/00，G02B 11/00，G02B 15/00，G02B 17/00；目镜入G02B 25/00）；光学瞄准或观测设备（武器瞄准器或瞄准设备的非光学方面入F41G）〔4〕 G02B23/02 包含棱镜或反射镜（G02B 23/14优先）	IPC分类号	G;0;2;B;2;3;/;0;2;;;G;0;2;B;2;3;/;1;6;;;G;0;2;B;7;/;1;8;2查看分类表>
申请人	肖特股份有限公司	申请人地址	德国美因茨变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	肖特股份有限公司	当前权利人	肖特股份有限公司
发明人	M·舍费尔;M·温伯格;V·塞伯特;T·维斯特尔霍夫
代理机构	北京思益华伦专利代理事务所（普通合伙）	代理人	赵飞;李敬

摘要

本发明总体上涉及一种反射镜和反射镜基底，特别是具有高纵横比的反射镜和反射镜基底，以及生产它们的方法和装置。

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