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一种谐振腔增强探测器腔模的控制方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200710304257.6
  • IPC分类号:H01L31/18;G05D5/02;G01J3/44
  • 申请日期:
    2007-12-26
  • 申请人:
    中国科学院半导体研究所
著录项信息
专利名称一种谐振腔增强探测器腔模的控制方法
申请号CN200710304257.6申请日期2007-12-26
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2009-07-01公开/公告号CN101471396
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L31/18IPC分类号H;0;1;L;3;1;/;1;8;;;G;0;5;D;5;/;0;2;;;G;0;1;J;3;/;4;4查看分类表>
申请人中国科学院半导体研究所申请人地址
北京市海淀区清华东路甲35号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国科学院半导体研究所当前权利人中国科学院半导体研究所
发明人孙晓明;郑厚植;章昊;甘华东;朱汇;谈笑天;肖文波;李韫慧
代理机构中科专利商标代理有限责任公司代理人周国城
摘要
本发明一种谐振腔增强探测器腔的控制方法,包括:1)设计谐振腔增强探测器的腔模,初始设置探测器每一个结构层的厚度,由分子束外延设备生长样品;2)采用显微拉曼光谱仪测量样品的反射谱,得到高反带的中心位置以及样品实际腔模位置;3)运用模拟程序,计算出与实际样品高反带完全对应的砷化镓层的厚度,砷化铝层的厚度以及与实际腔模完全对应所要求的腔体的厚度;4)根据步骤3)所得数据对第一次生长样品高反带的砷化镓层厚度、砷化铝层厚度以及腔体厚度进行校正,并对分子束外延设生长样品的时间参数进行校正,生长出新样品;5)采用显微拉曼光谱仪测量新样品反射谱。

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