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常温下微波等离子体和激光联合处理材料表面的方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN03141802.3
  • IPC分类号:--
  • 申请日期:
    2003-07-24
  • 申请人:
    复旦大学
著录项信息
专利名称常温下微波等离子体和激光联合处理材料表面的方法
申请号CN03141802.3申请日期2003-07-24
法律状态驳回申报国家中国
公开/公告日2004-02-11公开/公告号CN1473952
优先权暂无优先权号暂无
主分类号暂无IPC分类号暂无查看分类表>
申请人复旦大学申请人地址
上海市邯郸路220号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人复旦大学当前权利人复旦大学
发明人吴嘉达;孙剑;凌浩
代理机构上海正旦专利代理有限公司代理人姚静芳;王福新
摘要
本发明是一种常温下用微波等离子体和激光束联合对材料表面实施改性处理的方法。现有技术尚未见该类报道。本项发明的方法是:对特定的工作气体进行电子回旋共振微波放电产生微波等离子体,将等离子体引入材料处理室,同时将激光束引入材料处理室,微波等离子体和激光束同时作用于材料表面进行等离子体和激光联合处理,使表层材料的成分、组织或结构发生变化,达到改变或改善材料表面性能的目的。本发明适用范围广,参数调整方便,等离子体和激光束的种类和参数可以单独调整,还可以对材料表面的特定区域进行微区处理。

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