加载中...
首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

半导体制造装置用耐腐蚀性构件及其制法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201180015911.6
  • IPC分类号:C04B35/50;H01L21/205;H01L21/3065;H01L21/683
  • 申请日期:
    2011-03-18
  • 申请人:
    日本碍子株式会社
著录项信息
专利名称半导体制造装置用耐腐蚀性构件及其制法
申请号CN201180015911.6申请日期2011-03-18
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2012-12-12公开/公告号CN102822116A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C04B35/50IPC分类号C;0;4;B;3;5;/;5;0;;;H;0;1;L;2;1;/;2;0;5;;;H;0;1;L;2;1;/;3;0;6;5;;;H;0;1;L;2;1;/;6;8;3查看分类表>
申请人日本碍子株式会社申请人地址
日本爱知县名古屋市瑞穗区须田町2番56号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人日本碍子株式会社当前权利人日本碍子株式会社
发明人渡边守道;胜田祐司;早濑徹
代理机构上海市华诚律师事务所代理人徐申民;李晓
摘要
秤量Yb2O3与SrCO3为摩尔比1:1,调制调合粉末。将该调合粉末单轴加压成形,制作为圆盘状成形体。将成形体在大气气氛中进行热处理,合成复合氧化物。将合成的复合氧化物用研钵粗粉碎,进行湿式粉碎。将粉碎后取出的浆料在氮气流中干燥,制为合成原料粉末。将该合成原料粉末单轴加压成形,制作为圆盘状成形体。将得到的成形体用热压法烧成,得到半导体制造装置用耐腐蚀性构件。该耐腐蚀性构件,由SrYb2O4晶相构成,开孔率为0.1%,NF3腐蚀速率值小于由Y2O3的晶相构成的。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供