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背面具有两种频率不平滑度的成像基材

发明专利无效专利

申请号：
CN99123629.7
IPC分类号：--
申请日期：
1999-10-29
申请人：
伊斯曼柯达公司

基础信息

权利要求

说明书

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	背面具有两种频率不平滑度的成像基材
申请号	CN99123629.7	申请日期	1999-10-29
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2000-05-17	公开/公告号	CN1253307
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	伊斯曼柯达公司	申请人地址	美国纽约州变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	伊斯曼柯达公司	当前权利人	伊斯曼柯达公司
发明人	C·B·伍德沃思;T·S·古拉;R·P·布德莱斯
代理机构	中国专利代理（香港）有限公司	代理人	王景朝;杨丽琴

摘要

本发明涉及一种成像元件，当以500周/mm低通截止滤波器测量时，该元件的背层表面具有0.30-2.00μm平均不平滑度的低频不平滑成分，且当以500周/mm高通截止滤波器测量时，所述表面还具有0.001-0.05μm平均不平滑度的高频成分。

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