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在基板的突出部上包括接触部的垂直FET器件

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201910405404.1
  • IPC分类号:H01L29/78;H01L21/336
  • 申请日期:
    2019-05-15
  • 申请人:
    三星电子株式会社
著录项信息
专利名称在基板的突出部上包括接触部的垂直FET器件
申请号CN201910405404.1申请日期2019-05-15
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2019-11-26公开/公告号CN110504320A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L29/78
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;9;/;7;8;;;H;0;1;L;2;1;/;3;3;6查看分类表>
申请人三星电子株式会社申请人地址
韩国京畿道 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人三星电子株式会社当前权利人三星电子株式会社
发明人郑荣采;姜明吉;徐康一;金善培;朴容喜
代理机构中科专利商标代理有限责任公司代理人吴晓兵
摘要
提供了VFET器件。一种VFET器件包括基板,该基板包括第一突出部和第二突出部。该VFET器件包括位于第一突出部和第二突出部之间的隔离区域。该VFET器件包括分别位于第一突出部和第二突出部上的第一硅化物区域和第二硅化物区域。此外,该VFET器件包括位于第一硅化物区域和第二硅化物区域上的接触部。还提供了形成VFET器件的相关方法。

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