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一种边框生成方法、装置、设备及存储介质

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110878156.X
  • IPC分类号:G06T11/20;G06T11/00
  • 申请日期:
    2021-08-02
  • 申请人:
    杭州安恒信息技术股份有限公司
著录项信息
专利名称一种边框生成方法、装置、设备及存储介质
申请号CN202110878156.X申请日期2021-08-02
法律状态授权申报国家暂无
公开/公告日2021-08-27公开/公告号CN113313785A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G06T11/20IPC分类号G;0;6;T;1;1;/;2;0;;;G;0;6;T;1;1;/;0;0查看分类表>
申请人杭州安恒信息技术股份有限公司申请人地址
浙江省杭州市滨江区西兴街道联慧街188号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人杭州安恒信息技术股份有限公司当前权利人杭州安恒信息技术股份有限公司
发明人胡施宇;范渊;黄进
代理机构北京集佳知识产权代理有限公司代理人纪志超
摘要
本申请公开了一种边框生成方法、装置、设备及存储介质,包括:根据设计需求构建与目标边框对应的可拉伸的二维路径,并将二维路径中的全部二维坐标点转换为相应的一维坐标点,以得到与二维路径对应的一维路径;二维路径表征目标边框的形状轮廓;基于设计需求利用原子素材构建目标笔刷;原子素材为预先构建的细粒度色块,细粒度色块表征对目标边框进行填充的最小单元;按照预设规则通过纹理映射的方式将目标笔刷映射至与二维路径对应的一维路径中,并根据映射后的一维路径生成目标边框。本申请根据设计需求分别构建可拉伸二维路径和目标笔刷,通过纹理映射的方式生成目标边框,提高边框生成复用率及效率。

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