制造用于纳米压印图案化磁记录盘的母模的方法

发明专利无效专利

申请号：
CN200910145885.3
IPC分类号：G11B5/84;G11B5/86;G03F7/00
申请日期：
2009-06-17
申请人：
日立环球储存科技荷兰有限公司

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著录项信息

专利名称	制造用于纳米压印图案化磁记录盘的母模的方法
申请号	CN200910145885.3	申请日期	2009-06-17
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2009-12-23	公开/公告号	CN101609691
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G11B5/84 ? IPC结构图谱： G 物理 G9 G部其他 G11 信息存储 G11B 基于记录载体和换能器之间的相对运动而实现的信息存储（以不需要通过换能器重现记录值的方式记录测量值的入G01D 9/00；利用有机械标记的带子，例如，穿孔纸带或利用单元记录卡，如穿孔卡片或具有磁性标记的卡片的记录或重现设备入G06K；将数据从记录载体的一种类型转移到另一种类型上的入G06K 1/18；将重放装置的输出耦合到无线电接收机上去的电路入H04B 1/20；唱机拾音器之类的声音机电传感器或为此所用的电路入H04R） G11B5/00 借助于记录载体的激磁或退磁进行记录的；用磁性方法进行重现的；为此所用的记录载体（G11B 11/00优先）〔4〕 G11B5/84 专用于制造记录载体的方法或设备	IPC分类号	G;1;1;B;5;/;8;4;;;G;1;1;B;5;/;8;6;;;G;0;3;F;7;/;0;0查看分类表>
申请人	日立环球储存科技荷兰有限公司	申请人地址	荷兰阿姆斯特丹变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	HGST荷兰公司	当前权利人	HGST荷兰公司
发明人	托马斯·R·阿尔布雷克特;里卡多·鲁伊斯
代理机构	北京市柳沈律师事务所	代理人	冯玉清

摘要

本发明涉及制造母模的方法，该母模用于纳米压印图案化介质磁记录盘。该方法使用常规光学或电子束光刻在衬底上形成基本径向的条的图案，所述条分组为环形区或带。嵌段聚合物材料沉积在所述图案上，导致嵌段聚合物被导引从而自组装成其组分，以使所述基本径向的条倍增为交替的嵌段聚合物组分的基本径向的线。一种组分的径向线被去除且留下的组分的径向线用作蚀刻掩模来蚀刻衬底。在蚀刻及去除抗蚀剂之后，母模具有布置成圆环的柱，圆环分组成环形带。

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