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锗纳米膜柔性金属型多沟道薄膜晶体管

实用新型专利无效专利
  • 申请号:
    CN201821009348.7
  • IPC分类号:H01L29/786;H01L29/16;H01L29/10;H01L29/423;H01L21/336
  • 申请日期:
    2018-06-28
  • 申请人:
    天津大学
著录项信息
专利名称锗纳米膜柔性金属型多沟道薄膜晶体管
申请号CN201821009348.7申请日期2018-06-28
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L29/786
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;9;/;7;8;6;;;H;0;1;L;2;9;/;1;6;;;H;0;1;L;2;9;/;1;0;;;H;0;1;L;2;9;/;4;2;3;;;H;0;1;L;2;1;/;3;3;6查看分类表>
申请人天津大学申请人地址
天津市南开区卫津路92号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人天津大学当前权利人天津大学
发明人秦国轩;裴智慧
代理机构天津市北洋有限责任专利代理事务所代理人刘国威
摘要
本实用新型属于柔性电子器件领域,为降低生产成本,透光性能更加优良,使得该柔性器件在大规模集成电路和光电器件的应用提供可能,本实用新型,锗纳米膜柔性金属型多沟道薄膜晶体管,结构如下:柔性可弯曲聚对苯二甲酸乙二醇酯PET上方依次为金属薄膜、二氧化铪栅介质层,二氧化铪栅介质层上方为锗纳米膜层,锗纳米膜层中部为N型漏掺杂区及其上方金属漏电极,N型漏掺杂区外侧为未掺杂区,所述未掺杂区外侧布设有两个N型源掺杂区,两个N型源掺杂区经导线引出形成相应的两个金属源电极;所述未掺杂区上方为氧化锌栅介质层;金属栅极经穿透二氧化铪栅介质层的通孔与导电的金属薄膜形成欧姆接触。本实用新型主要应用于柔性电子器件设计制造场合。

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