一种金属件的真空镀膜方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201410299957.0
IPC分类号：C23C14/16;C23C14/30;C23C14/34;C23C14/58
申请日期：
2014-06-26
申请人：
深圳惠科精密工业有限公司;章继波

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著录项信息

专利名称	一种金属件的真空镀膜方法
申请号	CN201410299957.0	申请日期	2014-06-26
法律状态	暂无	申报国家	中国
公开/公告日	2014-09-24	公开/公告号	CN104060224A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/16 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/06 以镀层材料为特征的（C23C 14/04优先）〔4〕 C23C14/14 金属材料、硼或硅〔4〕 C23C14/16 在金属基体或在硼或硅基体上〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;1;6;;;C;2;3;C;1;4;/;3;0;;;C;2;3;C;1;4;/;3;4;;;C;2;3;C;1;4;/;5;8查看分类表>
申请人	深圳惠科精密工业有限公司;章继波	申请人地址	广东省深圳市宝安区石岩街道石龙社区石龙居委民营路惠科工业园四栋变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	深圳惠科精密工业有限公司,章继波	当前权利人	深圳惠科精密工业有限公司,章继波
发明人	章继波
代理机构	广州市越秀区哲力专利商标事务所（普通合伙）	代理人	汤喜友

摘要

本发明公开了一种金属件的真空镀膜方法，将金属件放置于真空室内，采用真空镀膜方法在金属件表面上沉积一层金属薄膜。所述金属件为铝材料，所述金属靶材为铝材料；镀膜工艺参数如下：真空度为3×10‑3Pa‑5×10‑3Pa,金属件预热温度为70‑150℃，施加于金属靶材上的负电压为200‑1000V,沉积时间为50‑120分钟,金属薄膜的厚度为50μm‑80μm；采用本发明所述方法处理后的金属薄膜均匀并且附着力好,增强了产品表面镀层的耐磨性及耐腐蚀性。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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