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有透明导电镍酸锂底电极的外延铌酸锶钡薄膜及制备方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200710156478.3
  • IPC分类号:G02F1/035;G02F1/03
  • 申请日期:
    2007-11-01
  • 申请人:
    浙江大学
著录项信息
专利名称有透明导电镍酸锂底电极的外延铌酸锶钡薄膜及制备方法
申请号CN200710156478.3申请日期2007-11-01
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2008-04-30公开/公告号CN101169524
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G02F1/035IPC分类号G;0;2;F;1;/;0;3;5;;;G;0;2;F;1;/;0;3查看分类表>
申请人浙江大学申请人地址
浙江省杭州市西湖区浙大路38号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人浙江大学当前权利人浙江大学
发明人杜丕一;李晓婷;麦炽良;黄健洪;翁文剑;韩高荣;赵高凌;沈鸽;徐刚;张溪文
代理机构杭州求是专利事务所有限公司代理人林怀禹
摘要
本发明公开了一种具有透明导电镍酸锂底电极的外延铌酸锶钡薄膜及制备方法。在MgO基板一面外延沉积LNO镍酸锂透明导电层LNO薄膜,再在LNO薄膜上外延制备SBN薄膜。其制备步骤如下:首先以碳酸锂,氧化镍,氧化铌,碳酸锶,碳酸钡为原料,用固相烧结法分别制备镍酸锂靶材和铌酸锶钡靶材;其次将(001)MgO基板清洗后放入反应室,反应室抽真空,并加热基板,以氧气为保护气体,引入反应室中,脉冲激光溅射靶材,在基板上先后外延沉积镍酸锂导电电极和铌酸锶钡薄膜。本发明制备方法简单,制得的铌酸锶钡薄膜为(001)方向外延生长,薄膜外延性好,质量高,电光系数大(r33可达180~230pm/V),具有良好的应用前景。

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