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*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

台面工艺功率晶体管芯片结构

实用新型专利无效专利
  • 申请号:
    CN201120270384.0
  • IPC分类号:H01L27/082
  • 申请日期:
    2011-07-28
  • 申请人:
    江苏捷捷微电子股份有限公司
著录项信息
专利名称台面工艺功率晶体管芯片结构
申请号CN201120270384.0申请日期2011-07-28
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L27/082IPC分类号H;0;1;L;2;7;/;0;8;2查看分类表>
申请人江苏捷捷微电子股份有限公司申请人地址
江苏省南通市苏通科技产业园区井冈山路6号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人捷捷半导体有限公司当前权利人捷捷半导体有限公司
发明人王成森;黎重林;周榕榕;沈怡东
代理机构南京正联知识产权代理有限公司代理人卢海洋
摘要
本实用新型涉及台面工艺功率晶体管芯片结构,包括N+发射区、发射极铝电极、基极铝电极、SiO2保护膜、玻璃钝化膜、N+衬底扩散层、P型基区扩散层和硅单晶片,所述硅单晶片正面设有P型基区扩散层,所述硅单晶片背面设有N+衬底扩散层,所述P型基区扩散层表面设有SiO2保护膜、基极铝电极、N+发射区和发射极铝电极,所述硅单晶片和P型基区扩散层上设有正面沟槽,所述正面沟槽底部和侧壁设有玻璃钝化膜,其特征在于:所述N+衬底扩散层背面周围设有背面应力平衡槽,所述背面应力平衡槽顶部和侧壁设有玻璃膜,所述N+衬底扩散层和玻璃膜表面上设有多层金属电极。本实用新型的优点是:结构简单、制造的芯片击穿电压特性好、合格率较高、且产品可靠性较高。

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