带有通孔的X射线光刻掩模

发明专利无效专利

申请号：
CN200910080919.5
IPC分类号：G03F1/00
申请日期：
2009-03-25
申请人：
中国科学院微电子研究所

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	带有通孔的X射线光刻掩模
申请号	CN200910080919.5	申请日期	2009-03-25
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2010-09-29	公开/公告号	CN101846874A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F1/00 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F1/00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备〔3，2012.01〕	IPC分类号	G;0;3;F;1;/;0;0查看分类表>
申请人	中国科学院微电子研究所	申请人地址	北京市朝阳区北土城西路3号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	中国科学院微电子研究所	当前权利人	中国科学院微电子研究所
发明人	谢常青;马杰;朱效立;刘明;陈宝钦;叶甜春
代理机构	中科专利商标代理有限责任公司	代理人	周国城

摘要

本发明公开了一种带有通孔的X射线光刻掩模，包括：一支撑框架，其具有平滑的上表面，用于固定和支撑带有通孔的薄膜；一层带有通孔的薄膜，位于该支撑框架平滑的上表面；以及一组粘附在带有通孔的薄膜之上的吸收体。利用本发明，在抽真空时，通过所述一个或者多个通孔可以有效地排出掩模和衬底之间的残余气体，从而保持掩模和衬底之间的较小空隙。这样一方面防止气体膨胀造成的掩模破裂，另一方面，减小曝光间隙有利于获得比较好的曝光效果。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供