一种高饱和磁感强度和低铁损的铁基非晶薄带及其制备方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201210298800.7
IPC分类号：C22C45/02;C22C33/04;B22D11/06;H01F1/047
申请日期：
2012-08-21
申请人：
安泰科技股份有限公司

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专利名称	一种高饱和磁感强度和低铁损的铁基非晶薄带及其制备方法
申请号	CN201210298800.7	申请日期	2012-08-21
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2012-11-21	公开/公告号	CN102787282A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C22C45/02 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C22 冶金；黑色或有色金属合金；合金或有色金属的处理 C22C 合金（合金的处理入C21D、C22F） C22C45/00 非晶态合金〔5〕 C22C45/02 铁作主要成分的〔5〕	IPC分类号	C;2;2;C;4;5;/;0;2;;;C;2;2;C;3;3;/;0;4;;;B;2;2;D;1;1;/;0;6;;;H;0;1;F;1;/;0;4;7查看分类表>
申请人	安泰科技股份有限公司	申请人地址	北京市海淀区学院南路76号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	安泰科技股份有限公司	当前权利人	安泰科技股份有限公司
发明人	周少雄;董帮少;李德红;陈文智;张淑兰
代理机构	北京中安信知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	张小娟

摘要

本发明涉及磁性功能材料领域，涉及一种Fe基非晶态合金，所述Fe基非晶态合金的化学式为FeaSibBcCdOe，其中a为79至88at%，b为0.2至18at%，c为2至18at%，d为0.01至5at%，e为0.001至0.2at%。从所述Fe基非晶态合金的自由面或贴辊面两个表面到其内部的O浓度分布在深度1至20nm内出现富集层，且富集层厚度1-10nm，C浓度自表面开始逐步递减，并在浓度2-8nm处出现一个浓度平台，Si浓度在深度1-15nm处出现浓度最高值，B浓度在1-15nm处出现浓度最高值。本发明的Fe基非晶态合金的饱和磁感应强度Bs在1.62T以上，矫顽力Hc在3.6A/m以下，损耗P14/50在0.42W/kg以下，具有高饱和磁感应强度和低铁芯损耗，适用于变压器、发动机、发电机和扼流圈、磁传感器等。

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