加载中...
首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

一种聚变堆低氚滞留氢同位素分离装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110101922.1
  • IPC分类号:B01D59/50;B01D59/04;B01D59/26;B01D59/10
  • 申请日期:
    2021-01-26
  • 申请人:
    中国工程物理研究院核物理与化学研究所
著录项信息
专利名称一种聚变堆低氚滞留氢同位素分离装置
申请号CN202110101922.1申请日期2021-01-26
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-06-04公开/公告号CN112892212A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B01D59/50IPC分类号B;0;1;D;5;9;/;5;0;;;B;0;1;D;5;9;/;0;4;;;B;0;1;D;5;9;/;2;6;;;B;0;1;D;5;9;/;1;0查看分类表>
申请人中国工程物理研究院核物理与化学研究所申请人地址
四川省绵阳市绵山路64号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国工程物理研究院核物理与化学研究所当前权利人中国工程物理研究院核物理与化学研究所
发明人夏修龙;彭述明;王和义;肖成建;付小龙;李佳懋;王鑫;侯京伟;岳磊;赵林杰
代理机构中国工程物理研究院专利中心代理人冯玲玲
摘要
本发明公开了一种聚变堆低氚滞留氢同位素分离装置,该装置包括:低温精馏系统、低温色谱分离系统、膜分离系统和氚储存系统,低温精馏系统、低温色谱分离系统和膜分离系统按照气体流动的方向顺序连接,氚储存系统与低温色谱分离系统的气体出口连接,用于储存分离之后的氚,低温精馏系统和低温色谱分离系统用于完成氢氚混合气体的两级分离及浓缩,膜分离系统用于分离混合气体中的He气。本发明公开的聚变堆低氚滞留氢同位素分离装置解决了大量氚滞留在分离系统中无法使用的问题,提高了氚的利用率和装置的固有安全性;本发明公开的氢同位素分离装置经济性、可靠性和资源利用率大幅提高,节约生产成本。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供