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高功函数可调的三元过渡金属氮化物、其制备方法及应用

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201911219946.6
  • IPC分类号:H01L51/50;H01L51/00;C01G39/00;C01G41/00
  • 申请日期:
    2019-12-03
  • 申请人:
    中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
著录项信息
专利名称高功函数可调的三元过渡金属氮化物、其制备方法及应用
申请号CN201911219946.6申请日期2019-12-03
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-06-04公开/公告号CN112909189A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L51/50IPC分类号H;0;1;L;5;1;/;5;0;;;H;0;1;L;5;1;/;0;0;;;C;0;1;G;3;9;/;0;0;;;C;0;1;G;4;1;/;0;0查看分类表>
申请人中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所申请人地址
江苏省苏州市苏州工业园区独墅湖高教区若水路398号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所当前权利人中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
发明人蒋春萍;李玉雄;刘峰峰;林雨;赵永旻;隋展鹏
代理机构南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙)代理人王锋
摘要
本发明公开了一种高功函数可调的三元过渡金属氮化物、其制备方法及应用。所述三元过渡金属氮化物为MoxM1‑xN,其中M包括Ti、Hf、Zr、W中的任意一种,0.7≤x≤1。本发明的三元过渡金属氮化物功函数可控,利用其制成的膜具有高功函数、高反射率以及高导电性等优点,可应用于制备顶发射型OLED器件、Si/PEDOT:PSS杂化太阳能电池、高功函数p型有机半导体或无机半导体等领域。

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