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具有深度鉴别的光学再现的方法和装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200880018509.1
  • IPC分类号:G01B11/24;G02B21/00;G02B21/16;G06T7/00;G01N21/64
  • 申请日期:
    2008-04-11
  • 申请人:
    迈克尔·施韦特纳
著录项信息
专利名称具有深度鉴别的光学再现的方法和装置
申请号CN200880018509.1申请日期2008-04-11
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2010-03-24公开/公告号CN101680749
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G01B11/24IPC分类号G;0;1;B;1;1;/;2;4;;;G;0;2;B;2;1;/;0;0;;;G;0;2;B;2;1;/;1;6;;;G;0;6;T;7;/;0;0;;;G;0;1;N;2;1;/;6;4查看分类表>
申请人迈克尔·施韦特纳申请人地址
德国耶拿 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人迈克尔·施韦特纳当前权利人迈克尔·施韦特纳
发明人迈克尔·施韦特纳
代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所代理人秦晨
摘要
本发明涉及一种用于产生光学截面图像的方法和装置。本发明允许对空间扩展物体的三维的、逐层的光学扫描,并且用于显微术,但并被限于这个领域。在所述方法中,在至少一个方向上具有周期性的照明分布(3)投影到平面(9)中,被样本(10)反射和/或散射和/或发射的荧光和/或冷光被成像到空间分辨检测器上。根据本发明,首先执行校准步骤,在校准步骤中,针对检测器(11)上的每个位置确定照明图案的局部相位和/或局部周期。在样本检测模式中,为了计算每个光学截面图像,存在两种投影到样本(10)中或样本上的照明分布,得到的强度分布再现在检测器上。投影和检测这两种照明分布的方法步骤能够根据需要重复执行,尤其是对于样本(10)的不同聚焦位置和/或不同的曝光波长,其中,在局部相位和/或局部周期的辅助下,根据捕捉的强度分布计算至少一个光学截面图像。

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