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全息光栅及阴型光栅和复制光栅

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN00133647.9
  • IPC分类号:--
  • 申请日期:
    2000-11-30
  • 申请人:
    株式会社岛津制作所
著录项信息
专利名称全息光栅及阴型光栅和复制光栅
申请号CN00133647.9申请日期2000-11-30
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2001-08-29公开/公告号CN1310346
优先权暂无优先权号暂无
主分类号暂无IPC分类号暂无查看分类表>
申请人株式会社岛津制作所申请人地址
日本国京都市 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人株式会社岛津制作所当前权利人株式会社岛津制作所
发明人小枝胜;田中裕次;副岛章雄
代理机构中科专利商标代理有限责任公司代理人黄永奎
摘要
一种全息光栅,其中相对在光致抗蚀层2上,按照大于所需槽的深度的值通过曝光方式形成的衍射光栅图形,沿与抗蚀图形的刻线方向相垂直,并且相对主板的法线方向的斜上的方向,借助按照O2/(CF4+O2)在0.1~0.9的比例范围而适当混合的CF4与O2的混合气体,进行蚀刻处理,直至光致抗蚀层2完全消失,直接在光学玻璃主板1上,刻线而形成所需深度的槽。该全息光栅具有耐久性,漫射光值优良,衍射效率较高,并且较宽波段的衍射变化较小。

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