零部件、其形成涂层的方法及装置和等离子体反应装置

发明专利有效专利

申请号：
CN202010361061.6
IPC分类号：H01J37/32;C23C14/24
申请日期：
2020-04-30
申请人：
中微半导体设备（上海）股份有限公司

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著录项信息

专利名称	零部件、其形成涂层的方法及装置和等离子体反应装置
申请号	CN202010361061.6	申请日期	2020-04-30
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2021-11-02	公开/公告号	CN113594013A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01J37/32 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01J 放电管或放电灯（火花隙入H01T；消耗电极的弧光灯入H05B；粒子加速器入H05H） H01J37/00 有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的（H01J 33/00、H01J 40/00、H01J 41/00、H01J 47/00、H01J 49/00优先）〔2，5〕 H01J37/32 充气放电管（放电加热的入H05B）	IPC分类号	H;0;1;J;3;7;/;3;2;;;C;2;3;C;1;4;/;2;4查看分类表>
申请人	中微半导体设备（上海）股份有限公司	申请人地址	上海市浦东新区金桥出口加工区（南区）泰华路188号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	中微半导体设备（上海）股份有限公司	当前权利人	中微半导体设备（上海）股份有限公司
发明人	段蛟;孙祥;陈星建
代理机构	深圳中创智财知识产权代理有限公司	代理人	文言;田宇

摘要

本发明属于等离子体刻蚀技术领域，公开了一种形成耐等离子体涂层的方法、形成耐等离子体涂层的装置、用于等离子体反应装置的零部件和等离子体反应装置。其中，等离子体反应装置包括反应腔，反应腔内为等离子体环境，零部件暴露于等离子体环境中，零部件包括零部件本体和耐等离子体涂层，零部件本体具有孔结构，耐等离子体涂层位于零部件本体表面和孔结构的内表面。本发明实施例提供的零部件，在零部件的实际使用过程中，其孔结构的内表面的耐腐蚀涂层不容易被等离子体轰击而产生脱落现象，进一步降低因耐等离子体涂层脱落而引发的金属污染的风险，能够提高零部件的服役寿命，并提升等离子体刻蚀制程的良率。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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