具有降低的光散射、超疏性表面的基材和其生产方法

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专利名称	具有降低的光散射、超疏性表面的基材和其生产方法
申请号	CN01813431.9	申请日期	2001-05-23
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2003-09-24	公开/公告号	CN1444547
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	森尼克斯表面毫微技术股份有限公司	申请人地址	德国科恩变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	森尼克斯表面毫微技术股份有限公司	当前权利人	森尼克斯表面毫微技术股份有限公司
发明人	K·雷斯;A·杜帕雷;G·诺特尼
代理机构	中国专利代理（香港）有限公司	代理人	王景朝;邰红

摘要

本发明涉及具有降低的光散射、超疏性表面的基材，涉及生产所述基材的方法和其用途。所述具有降低的光散射、超疏性表面的基材具有的总散射损失≤7％、优选≤3％和特别是≤1％，和对于水的接触角为≥140°、优选≥150°。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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