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立式抛光机

实用新型专利null
  • 申请号:
    CN201220024157.4
  • IPC分类号:B24B29/00;B24B41/06
  • 申请日期:
    2012-01-17
  • 申请人:
    周齐佑
著录项信息
专利名称立式抛光机
申请号CN201220024157.4申请日期2012-01-17
法律状态暂无申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B24B29/00IPC分类号B;2;4;B;2;9;/;0;0;;;B;2;4;B;4;1;/;0;6查看分类表>
申请人周齐佑申请人地址
广东省江门市新会区会城明翠新村翠昌苑4座101 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人周齐佑当前权利人周齐佑
发明人周齐佑
代理机构暂无代理人暂无
摘要
本实用新型公开了一种立式抛光机,包括机架,机架上固定有立式导轨,立式导轨上固定有转盘,转盘的活动盘安装有抛光电机,抛光电机连接抛光轮;机架上还设有用于安装加工工件的活动夹具。立式导轨带动抛光轮沿垂直方向实现运动,同时转盘能够使抛光轮根据工件的表面形状进行摆动,而且活动夹具也能够带动待加工工件进行转动、平移、摆动等动作,使得抛光轮与工件相互之间的活动配合能够实现各种内外表面的抛光加工,且由于抛光轮整体是沿垂直方向活动的,因此整机体积较小、所占用的场地较少。

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