加载中...
首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

用于光刻机的浸没自适应密封控制装置

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200810121871.3
  • IPC分类号:G03F7/20
  • 申请日期:
    2008-10-21
  • 申请人:
    浙江大学
著录项信息
专利名称用于光刻机的浸没自适应密封控制装置
申请号CN200810121871.3申请日期2008-10-21
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2009-04-08公开/公告号CN101403861
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人浙江大学申请人地址
浙江省杭州市西湖区浙大路38号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人浙江大学当前权利人浙江大学
发明人付新;陈晖;陈文昱;杨华勇
代理机构杭州求是专利事务所有限公司代理人林怀禹
摘要
本发明公开了一种用于光刻机的浸没自适应密封控制装置。浸没自适应密封控制装置是在投影透镜组和衬底之间设置的装置,由密封构件和自适应密封件组成。当液体由于衬底牵拉形成对自适应密封件冲击时,该结构能够吸收高速运动液体形成的冲击,并将其转化为增强密封的动力;反之,当衬底牵拉液体远离自适应密封件之时,该结构内部预存的液体将跟随进入缝隙流场,避免由于边界液体的缺失引起的气泡卷吸,同时,内部预存液体的减少将降低自适应密封件的密封动力,泄漏的液体由于受到阻碍的减少而跟随衬底回流到缝隙流场内部。浸没自适应密封控制装置的液体输送方式采用负压回收、注液端自由流动,避免了注液与回收压力不协调导致的流场波动。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供