一种用于制备铜锰尖晶石涂层的铜锰合金镀液及其应用

发明专利无效专利

申请号：
CN201610643626.3
IPC分类号：C25D3/58;C25D5/34;C25D5/48
申请日期：
2016-08-08
申请人：
西安科技大学

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专利名称	一种用于制备铜锰尖晶石涂层的铜锰合金镀液及其应用
申请号	CN201610643626.3	申请日期	2016-08-08
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2016-10-12	公开/公告号	CN106011958A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C25D3/58 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C25 电解或电泳工艺；其所用设备〔4〕 C25D 覆层的电解或电泳生产工艺方法；电铸（印刷电路的金属沉积法制造入H05K 3/18）；工件的电解法接合；所用的装置（阳极或阴极保护入 C23F13/00；单晶生长入C30B）〔2，6〕 C25D3/00 电镀；其所用的镀液〔2〕 C25D3/02 溶液（C25D 5/24至C25D 5/32优先）〔2〕 C25D3/56 合金的〔2〕 C25D3/58 含铜重量超过50的〔2〕	IPC分类号	C;2;5;D;3;/;5;8;;;C;2;5;D;5;/;3;4;;;C;2;5;D;5;/;4;8查看分类表>
申请人	西安科技大学	申请人地址	陕西省西安市雁塔中路58号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	西安科技大学	当前权利人	西安科技大学
发明人	朱明;张慧慧;张路路
代理机构	西安创知专利事务所	代理人	谭文琰

摘要

本发明提供了一种用于制备铜锰尖晶石涂层的铜锰合金镀液，包括以下浓度的各组分：铜离子源0.025mol/L～0.1mol/L；锰离子源0.25mol/L～1.0mol/L；螯合剂0.03mol/L～0.1mol/L；缓冲剂20g/L～200g/L；稳定剂10g/L～50g/L；余量为溶剂。本发明还提供了一种利用该镀液制备铜锰尖晶石涂层的方法，包括以下步骤：一、除油和活化；二、电镀；三、后处理。本发明工艺简单、条件可控、镀层均匀致密，与金属件基体粘附性好，适用于沉积在固体氧化物金属连接体表面，经由氧化处理后可转变为铜锰尖晶石涂层，提高固体氧化物燃料电池服役寿命。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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