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等离子喷涂法制备的氧化镧-氧化铝复合涂层及其制备方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200810036887.4
  • IPC分类号:C23C4/10
  • 申请日期:
    2008-04-30
  • 申请人:
    中国科学院上海硅酸盐研究所
著录项信息
专利名称等离子喷涂法制备的氧化镧-氧化铝复合涂层及其制备方法
申请号CN200810036887.4申请日期2008-04-30
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2008-10-08公开/公告号CN101280405
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C23C4/10IPC分类号C;2;3;C;4;/;1;0查看分类表>
申请人中国科学院上海硅酸盐研究所申请人地址
上海市定西路1295号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国科学院上海硅酸盐研究所当前权利人中国科学院上海硅酸盐研究所
发明人尹志坚;陶顺衍;周霞明;丁传贤
代理机构暂无代理人暂无
摘要
本发明涉及等离子喷涂法制备的氧化镧-氧化铝复合涂层及其制备方法,属于耐磨陶瓷涂层领域。本发明的按氧化镧和氧化铝比例为3/97~10/90称取氧化铝和氧化镧粉体,球磨混合;采用等离子体喷涂工艺,将复合粉体沉积于已清洗和喷砂处理的金属基材上。本发明制得的氧化镧-氧化铝复合涂层显微结构分析表明镧元素均匀地分散在氧化铝基体相中,涂层相比于喷涂纯Al2O3涂层,等离子喷涂Al2O3-La2O3涂层有更高的沉积效率,有效地改善等离子喷涂涂层的耐磨性能。

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