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多晶硅样品刻蚀装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201510368443.0
  • IPC分类号:H01L21/306;H01L21/66
  • 申请日期:
    2015-06-29
  • 申请人:
    昆山国显光电有限公司
著录项信息
专利名称多晶硅样品刻蚀装置
申请号CN201510368443.0申请日期2015-06-29
法律状态暂无申报国家中国
公开/公告日2015-09-23公开/公告号CN104934310A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/306
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;3;0;6;;;H;0;1;L;2;1;/;6;6查看分类表>
申请人昆山国显光电有限公司申请人地址
四川省成都市高新区天映路146号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人成都辰显光电有限公司当前权利人成都辰显光电有限公司
发明人魏博
代理机构广州华进联合专利商标代理有限公司代理人唐清凯
摘要
本发明涉及一种多晶硅样品刻蚀装置,包括密封桶体、连杆装置、样品支架以及样品载台,桶体中央设有保护塔,连杆装置垂直于桶体底部可转动地设置于保护塔内;多晶硅样品刻蚀装置还包括与保护塔的外壁连接且垂直于桶体底部的隔板,隔板将桶体内的空间隔开形成两个以上的工作区域;连杆装置、样品支架以及样品载台依次连接,所述保护塔的外壁开设有一圈窗口,以供样品支架从保护塔内伸进工作区域且可随连杆装置转动而不会被保护塔外壁阻碍。本发明通过连杆装置控制支架前端绕转轴升降,从而控制样品载台上的样品是否浸渍于刻蚀液中。样品刻蚀过程发生在由密封桶体提供的全密封环境下,避免刻蚀液挥发等原因损害操作人员的人身健康。

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