多色调光掩模及其制造方法、以及图案转印方法

发明专利有效专利

申请号：
CN200910129752.7
IPC分类号：G03F1/32
申请日期：
2009-03-26
申请人：
HOYA株式会社

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著录项信息

专利名称	多色调光掩模及其制造方法、以及图案转印方法
申请号	CN200910129752.7	申请日期	2009-03-26
法律状态	暂无	申报国家	中国
公开/公告日	2009-09-30	公开/公告号	CN101546116
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F1/32 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F1/16 （转入G03F 1/00-G03F 1/86） G03F1/26 相移掩膜〔PSM〕；PSM空白；其制备〔2012.01〕 G03F1/32 衰减 PSM〔att-PSM〕，例如半色调PSM或者有半透明相移部分的PSM；其制备〔2012.01〕	IPC分类号	G;0;3;F;1;/;3;2查看分类表>
申请人	HOYA株式会社	申请人地址	日本东京都160-8347新宿区西新宿六丁目10番1号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	HOYA株式会社	当前权利人	HOYA株式会社
发明人	山口昇;三好将之
代理机构	北京三友知识产权代理有限公司	代理人	黄纶伟

摘要

多色调光掩模及其制造方法、以及图案转印方法。本发明的多色调光掩模的制造方法在透明基板(21)上分别形成遮光膜(22)以及透过曝光光的一部分的半透光膜(24)，并通过对各个膜实施规定的构图而形成含有遮光部、透过曝光光的一部分的半透光部以及透光部的转印图案，该制造方法的特征在于，对所述半透光膜(24)和所述遮光膜(22)分别实施基于湿蚀刻的构图，形成所述转印图案，对所述转印图案中半透光膜的至少一部分进行表面改质处理，改变所述半透光膜(24)的曝光光透过率变化，减小所述转印图案中存在的半透光部的透过率面内分布范围。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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