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用于芯片封装件的结构和形成方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201610080185.0
  • IPC分类号:H01L23/29;H01L21/56
  • 申请日期:
    2016-02-04
  • 申请人:
    台湾积体电路制造股份有限公司
著录项信息
专利名称用于芯片封装件的结构和形成方法
申请号CN201610080185.0申请日期2016-02-04
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2017-04-19公开/公告号CN106571346A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L23/29IPC分类号H;0;1;L;2;3;/;2;9;;;H;0;1;L;2;1;/;5;6查看分类表>
申请人台湾积体电路制造股份有限公司申请人地址
中国台湾新竹 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人台湾积体电路制造股份有限公司当前权利人台湾积体电路制造股份有限公司
发明人洪瑞斌;黄震麟;刘献文;郑心圃
代理机构北京德恒律治知识产权代理有限公司代理人章社杲;李伟
摘要
提供了芯片封装件的结构和形成方法。芯片封装件包括半导体管芯和部分或地包封半导体管芯的封装层。芯片封装件也包括穿透封装层的导电部件。芯片封装件还包括界面层,该界面层连续地围绕导电部件。界面层位于导电部件和封装层之间,并且界面层由金属氧化物材料制成。

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